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シクロデキストリンを用いた自己修復材料 |
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シクロデキストリンを用いた自己修復性コーティング材料 |
ホスト―ゲスト相互作用を用いた完全な自己修復の実現
自己修復材料の作製方法のうち、（２）ホスト分子修飾モノマーとゲスト分子修飾モノマーの包接錯体を架橋ユニットとして導入し重合させる方法 により自己修復コーティングを作製した。
重合前のモノマーと光重合開始剤を混合した溶液を基板上に塗布し、UV光を照射することで基板上にフィルム状のゲルを得た。これを乾燥することでコーティングフィルムを得た。この表面にカッターの刃で傷を付けた後に少量の水を噴霧すると、数分程度で表面の傷が消失した。今後、工業用途、医療用途等の幅広い分野への応用展開が期待される。
(Nakahata, M.; Takashima, Y.; Harada, A. Macromol. Rapid Commun. 2016, 37, 86-92.)
