研究概要

本研究室は、最先端のオリジナル研究教育機器を開発しながら、ものづくりに根ざした物理化学研究を行っています。特に独自の先端機器を開発しながら、原子や分子により構成される粒子ビームが固体表面で引き起こす化学反応素過程について研究し、その制御を目指しています。一方で、粒子ビームを利用したオリジナルの表面分析機器の開発にも取り組んでおり、幅広い意味での表面科学の諸問題の解決を目指しています。

1.配向および配列分子ビーム法による表面化学反応立体ダイナミクスの解明

○六極電場や高分解能速度選別器を用いて入射分子の分子の配向・配列を実験的に制御し、表面反応における立体効果について研究を行っている。(詳細はこちら)

2.赤外分光法・光電子分光法等の表面分光法を用いた金属・半導体表面化学反応の解明

Underconstruction

3.放射光施設SPring-8を利用したX線光電子分光による表面化学反応過程の解明

○放射光を利用した高分解能光電子分光(XPS)を用いて、表面反応における入射ビームの並進エネルギー効果などの基礎的なメカニズムを解明するだけではなく、さらに薄膜形成技術への応用展開を進めている。(詳細はこちら)

4.固体表面の低次元性にともなう相転移現象とその機構解明

Underconstruction

5.合金表面を用いた電子状態のチューニングによる表面化学反応制御

Underconstruction

6.超低速イオンビームを用いた新しい二次イオン質量分析法の開発とその応用

数十eVの超低速イオンビームを用いた2次イオン質量分析装置の開発を行っている。（詳細はこちら）